На производственном участке часы, отслеживающие время обработки кристаллов, показывают время в секундах, а не в минутах. При использовании УФ-лент для разделения кристаллов необходимо либо сохранить качество продукции, либо списать её как бракованную: слишком длительная обработка приводит к оставлению клея на поверхности кристалла; слишком короткая обработка — к тому, что кристаллы отслаиваются. Необходим источник УФ-излучения, способный генерировать одинаковую спектральную составляющую и уровень энергии с каждым циклом обработки.
Что действительно имеет значение с технической точки зрения УФ-ленты требуют использования фотоинициаторов, чувствительных к определенным диапазонам УФ-излучения, обычно 365 нм и 385 нм. Используются лампы с узкополосным излучением; для предотвращения передачи тепла от инфракрасного излучения на кристалл используются дихроичные отражатели. Максимальная интенсивность излучения на поверхности кристалла составляет 2,5 Вт/см², что соответствует более чем 2000 мДж/см² энергии за менее чем 10 секунд. Стабильность выходной мощности остается на уровне 3% в течение 3000 часов работы. Лампа не выделяет озон благодаря кварцевой оболочке, обеспечивающей высокую пропускную способность УФ-излучения.
Почему это работает на практике УФ-ленты разрабатываются с учетом возможности быстрой связывания компонентов при помощи УФ-излучения. Когда спектр излучения лампы совпадает с спектром поглощения фотоинициатора, происходит мгновенное затвердевание поверхности, при этом сам клей остается неповрежденным. Это позволяет снимать ленту целым куском. Результатом является ускорение процесса обработки: время цикла сокращается с 30 секунд до менее чем 10 секунд, без возникновения термических напряжений в тонких структурах. Также повышается стабильность силы отслаивания ленты, снижается количество бракованных изделий, а замена лампы происходит в рамках запланированного технического обслуживания.
Детали, на которые нужно обратить внимание Необходимо обеспечить точное выравнивание. Даже 2 мм отклонения могут снизить эффективность излучения вдвое. Необходимо использовать радиометр для измерения интенсивности излучения на поверхности кристалла, а не только мощности лампы.
Лампа работает при низкой тепловой нагрузке, но для поддержания постоянной температуры отражателя все равно требуется использование системы принудительного охлаждения. В противном случае спектральная составляющая излучения изменится, что сократит срок службы отражателя. Необходимо также учитывать возможность использования контроля через 24-вольтовые сигналы, а также проверить совместимость разъемов с оборудованием.