Di area produksi, jam yang digunakan untuk menghitung waktu pemotongan wafer menunjukkan waktu dalam satuan detik, bukan menit. Proses pelepasan pita perekat menggunakan sinar UV ini membutuhkan pengendalian yang tepat agar hasilnya maksimal. Jika jumlah energi sinar UV terlalu banyak, maka akan tersisa lapisan perekat di permukaan wafer; sedangkan jika jumlah energinya terlalu sedikit, maka wafer bisa hancur. Yang dibutuhkan adalah sumber sinar UV yang mampu menghasilkan intensitas cahaya dan densitas energi yang konstan, dari siklus ke siklus.
Apa yang benar-benar penting secara teknis Pita perekat semikonduktor bergantung pada bahan fotoinisator yang dirancang untuk menyerap sinar UV pada panjang gelombang tertentu, biasanya 365 nm dan 385 nm. Lampu yang digunakan memiliki emisi sinar UV yang sempit, dan menggunakan reflektor dikrokik untuk mencegah panas dari sinar inframerah masuk ke dalam wafer. Intensitas cahaya di permukaan wafer mencapai 2,5 W/cm², sehingga energi yang diperlukan untuk proses pengeringan mencapai lebih dari 2.000 mJ/cm² dalam waktu kurang dari 10 detik. Stabilitas output lampu tetap tinggi, yaitu sekitar 3% selama 3.000 jam. Selain itu, lampu ini tidak menghasilkan ozon, berkat adanya lapisan kuarsa yang dirancang untuk memungkinkan transmisi sinar UV yang efektif.
Mengapa hal ini berhasil diterapkan dalam praktik Pita perekat ini dirancang untuk proses keterikatan antarmolekul yang cepat. Ketika spektrum sinar UV sesuai dengan kemampuan penyerapan fotoinisator, maka permukaan wafer akan langsung kering, sementara lapisan perekatnya tetap utuh. Dengan demikian, pita perekat dapat dilepas secara bersih, tanpa pecah. Keuntungannya adalah waktu proses yang lebih singkat: waktu proses berkurang dari 30 detik menjadi kurang dari 10 detik, tanpa adanya stres termal pada struktur tipis wafer. Hasilnya adalah gaya lepas yang konsisten, jumlah produk yang gagal diminimalkan, dan pergantian lampu dapat dilakukan sesuai jadwal perawatan yang telah ditentukan.
Hal-hal yang perlu diperhatikan Penyetelan posisi lampu harus sangat akurat. Bahkan perbedaan fokus sebesar 2 mm saja sudah cukup untuk mengurangi intensitas cahaya yang efektif hingga setengahnya. Gunakan alat pengukur radiasi di jalur produksi untuk mengukur dosis cahaya di permukaan wafer, bukan hanya daya lampu saja.
Lampu ini beroperasi dengan beban termal yang rendah, tetapi tetap membutuhkan sistem pendinginan udara untuk menjaga suhu reflektor tetap stabil. Jika tidak, konsistensi spektrum sinar UV akan berubah, dan umur reflektor akan berkurang. Pastikan sistem kontrol menggunakan tegangan 24 V, dan periksa juga kompatibilitas konektor dengan peralatan yang digunakan.